Molybdæn (Mo) Sputtering Targets

Molybdæn (Mo) Sputtering Targets Beskrivelse

Som en banebrydende teknologi til fremstilling af tyndfilmsmateriale har sputtering to karakteristika: "høj hastighed" og "ultra-lav temperatur". Molybdæn (Mo) Sputtering Targets er faste stoffer bombarderet af højhastigheds ionstrøm under sputterbehandling, som kan sputtere film ud med høj lysstyrke, høj farve, holdbarhed, korrosionsbestandighed, høj vedhæftning og lang levetid. Molybdæn (Mo) Sputtering Targets er ofte lavet af rene molybdæn- eller molybdænlegeringsmaterialer gennem pulvermetallurgi eller elektronstrålesmeltning. De spiller en vigtig rolle inden for det medicinske område og materialevidenskab, kemi, fysik og andre områder.

Anvendelse af molybdæn (Mo) sputteringsmål:
1. Elektronikindustrien: Molybdænmålmateriale bruges hovedsageligt i fladskærme, tyndfilmsbatterielektroder og ledningsmaterialer og råmaterialer til halvlederenheder, der barrierelag.
2. Medicinsk område: Anvendes hovedsageligt inden for det medicinske område af røntgengeneratorer, CT-maskiner, MR-udstyr osv., til generering af højenergi røntgenstråler for at hjælpe læger med at diagnosticere og behandle.
3. Luftfartsfelt: Filmen sputtered af målet kan bruges til at forbedre overfladeydelsen og levetiden for vigtige komponenter.
4. Videnskabeligt forskningsfelt: kan hjælpe med at forberede kemisk dampaflejring (CVD) film, mikrostrukturmaterialeanalyse.

Specifikationer for Molybdæn (Mo) sputteringsmål:

Molybdæn (Mo) Sputtering Targets Billeder:

Populære tags: molybdæn (mo) sputtering mål, leverandører, producenter, fabrik, tilpasset, engros, pris, tilbud, til salg