1. Fremragende fysiske og kemiske egenskaber
(1) Høj densitet: Densiteten af wolfram er 19,25 g/cm³, kun næstbedst efter platin og iridium, og rangerer på forkant med alle metaller. Denne højdensitetsegenskab gør wolframmål til et ideelt vægtforøgende materiale og strålingsafskærmningsmateriale, især velegnet til medicinsk beskyttelse og rumfartsfelter for at reducere volumen og samtidig øge udstyrs stabilitet og sikkerhed.
(2) Højt smeltepunkt: Wolframs smeltepunkt er 3422 grader, hvilket er det højeste blandt alle metaller. Denne egenskab betyder, at wolframmål kan fungere ved ekstremt høje temperaturer uden at smelte eller deformeres, hvilket gør dem særligt velegnede til brug i højtemperaturapplikationsmiljøer, såsom rumfart og højtemperaturkomponenter i atomreaktorer.
(3) Elektrisk ledningsevne: Selvom den elektriske ledningsevne af wolfram ikke er så god som kobber og sølv, opretholder den stadig god elektrisk ledningsevne ved høje temperaturer, hvilket gør det muligt for wolframmål effektivt at lede strøm i elektronisk udstyr ved høje temperaturer, som f.eks. Røntgenrør.
(4) Termisk ledningsevne: Wolfram har høj varmeledningsevne og kan effektivt overføre varme og reducere skader forårsaget af varmeakkumulering. I halvlederfremstillingsprocessen hjælper dens gode varmeledningsevne med at opretholde temperaturstabilitet under filmvækst, hvilket forbedrer produktionseffektiviteten og produktkvaliteten.
(5) Korrosionsbestandighed: Wolfram har fremragende korrosionsbestandighed og kan modstå erosion af de fleste syrer og baser. Denne egenskab gør wolframmål ekstremt holdbare og pålidelige i applikationer i den kemiske proces og farmaceutiske industrier, især i korrosive miljøer.
(6) Slidstyrke: Wolfram har ekstrem høj hårdhed og er placeret under diamant, så dens overflade har stærk slidstyrke. I applikationer, der kræver slidstyrke, såsom i visse mekaniske dele og værktøjsmaterialer, kan wolframmål effektivt forlænge produktets levetid.
2. Anvendelsesfordele ved Tungsten Targets inden for medicinsk forskning
Anvendelser: Medicinsk billedbehandlingsudstyr (såsom CT-scannere, røntgenmaskiner), industriel fejldetektion (såsom ikke-destruktiv testning) og fremstilling af radioaktive afskærmningsenheder.
Tungsten Targets bruges som anodemateriale i røntgenrør, og deres høje smeltepunkt og termiske stabilitet bruges til at kollidere med elektroner ved høj spænding ved høj hastighed for at generere røntgenstråler. Disse røntgenstråler bruges til at trænge ind i den menneskelige krop eller materialer for at danne billeder til medicinsk diagnose eller påvisning af den indre struktur af objekter. Dens høje smeltepunkt og termiske stabilitet gør røntgengenerering mere effektiv, samtidig med at den giver højere billedklarhed. Denne applikation forbedrer ikke kun kvaliteten af medicinske billeder markant, hvilket gør det muligt for læger at diagnosticere sygdomme mere præcist, men hjælper også med at reducere strålingsdosis modtaget af patienter, hvilket forbedrer den medicinske sikkerhed og effektivitet.
Ved at udnytte højdensitetsegenskaberne af wolfram er Tungsten Targets meget udbredt inden for medicinsk stråling. De bruges som beskyttelsesmaterialer til fremstilling af røntgenbeskyttelsesbarrierer, beholdere og andet afskærmningsudstyr, der effektivt forhindrer radioaktiv stråling i at skade medicinsk personale og patienter og forbedrer sikkerheden ved radioaktive medicinske operationer. sikkerhed.
3. Tungsten Targets forbedrer produktionseffektiviteten i halvlederindustrien
Efterhånden som elektroniske enheder udvikler sig i retning af mindre størrelser og højere ydeevne, står halvlederfremstilling over for ekstremt høje krav til præcision og renhed. Ved fremstilling af integrerede kredsløb bruges wolframmål til fysisk dampaflejring for at danne metalfilm med høj renhed. Brugen af wolframmål forbedrer afsætningseffektiviteten og kvaliteten af halvlederfilm. Det understøtter ikke kun de hurtige fremskridt inden for halvlederteknologi og fremmer teknologisk innovation i smartphones, computere og andre elektroniske enheder, men forbedrer også produktets ydeevne og kvalitet i mikroelektronikfremstillingsprocessen. Pålidelighed understøtter den hurtige udvikling og miniaturiseringstrend af halvlederteknologi.
