Sputtering Target

Titanium aluminium sputtering mål

Titanium Aluminium Sputtering Target Beskrivelse Sputtering-målet refererer til det råmateriale, der anvendes i sputtering-afsætningsprocessen, som refererer til processen med at udstøde atomer fra

Føj til forespørgsel
Iridium mål

Materiale:Ir. Renhed:Større end eller lig med 99,99 %(4N). Tæthed:22,56 g/cm³. Diameter:Φ Større end eller lig med 20 mm. Tykkelse:1-15 mm eller tilpasset. Bredde:10-150 mm. Længde:10-300 mm.

Føj til forespørgsel
Aluminium Silicium Sputter Target

Aluminium Silicon Sputter Target er et legeret sputtermål sammensat af aluminium og silicium, primært brugt i fysiske dampaflejringsprocesser (PVD). Gennem teknikker såsom magnetronforstøvning danner

Føj til forespørgsel
Bor B -mål

Boron B Target is a high-purity metal target material used in PVD or CVD processes. It is made of boron as the main component and is made into a dense block through powder metallurgy or hot pressing.

Føj til forespørgsel
Platinum Metal -mål

Platinum Metal-mål er et funktionelt materiale fremstillet af platinum med høj renhed (PT) som et råmateriale med et højt smeltepunkt, stærk korrosionsbestandighed, fremragende elektrisk og termisk

Føj til forespørgsel
Koboltkromet wolframmål

Koboltchromet wolframmål er en type metalmål, der bruges til sputteringbelægning. Det er lavet af kobolt, krom, wolfram og andre metalelementer med fremragende slidstyrke og korrosionsbestandighed

Føj til forespørgsel
99,99% renhed nikkel ni sputtering mål

99,99% renhed Nikkel Ni Sputtering -mål er sputterende mål lavet af nikkelmaterialer med høj renhed med god elektrisk ledningsevne, termisk ledningsevne, korrosionsbestandighed og oxidationsmodstand.

Føj til forespørgsel
Yttrium aluminiumoxid sputtering mål

Yttrium aluminiumoxid Sputtering -mål er en slags keramisk mål lavet af yttriumoxid og aluminiumoxid gennem en bestemt proces. De bruges ofte i optiske instrumenter, elektroniske halvledere, rumfart,

Føj til forespørgsel
Aluminiumsilicium (AL/SI) Sputtering Mål

Aluminiumsilicium (AL/SI) Sputtering -mål er legeringsmål lavet af aluminium og silicium. De kan modstå høje temperaturer og ionbombardement under sputtering for at opnå ensartet, tætte og højtydende

Føj til forespørgsel
Aluminium Silicium Round -mål

Aluminium silicium runde mål er et legeringsmål lavet af aluminiumsiliciummateriale med høj renhed gennem præcisionsbehandlingsteknologi. Det spiller en vigtig rolle inden for mange felter, såsom

Føj til forespørgsel
ZR702 Zirconium -mål

ZR702 Zirconium-mål er et runde mål med høj runde lavet af zirkonium, som har høj styrke, god kemisk stabilitet, stærk elektrisk ledningsevne og termisk ledningsevne osv. Det kan bruges til at danne

Føj til forespørgsel
99,95% Pure NB2O5 mål

99,95% Pure NB2O5-mål er sputterende kilder, der danner forskellige funktionelle film på underlag gennem magnetron-sputtering, multi-arcion-plettering eller andre typer coating-systemer under

Føj til forespørgsel

Vi er kendt som en af de førende producenter og leverandører af sputtermål i Kina. Hvis du vil købe højkvalitets sputtermål med konkurrencedygtig pris, velkommen til at få tilbud fra vores fabrik. Også skræddersyet service er tilgængelig.

(0/10)