Nikkel Metal Sputtering Targets
Nikkel Metal Sputtering Targets Beskrivelse
I industrien er nikkel almindeligvis brugt til fremstilling af legeringer, batteriproduktion og som katalysator. Især inden for målmaterialer er nikkel meget udbredt på grund af dets fremragende fysiske og kemiske egenskaber. Nikkel Metal Sputtering Targets er hovedsageligt lavet af nikkelmaterialer med høj renhed gennem sputtering, elektronstrålefordampning, varmpresning eller kemisk dampaflejringsteknologi. De kan vælges og kombineres efter kundernes faktiske behov. Nikkel Metal Sputtering Targets har gode bearbejdningsegenskaber, stærk korrosionsbestandighed, god termisk og elektrisk ledningsevne, specifikke elektriske og magnetiske egenskaber, ensartet mikrostruktur, slagfasthed, slidstyrke, lang levetid osv. Fremragende egenskaber, den er velegnet til bred anvendelse i datalagringsindustrien, elektronik, halvlederindustrien, optisk kommunikation, fladskærmsindustrien, glasbelægning (bil, møbler og byggeri) og andre områder.
Specifikationer for nikkelmetalforstøvningsmål:
|
karakter |
Nikkel 200.201 |
|
Teknik |
Varm isostatisk presning, kornforfining, sintring, smedning, udglødning |
|
Renhed |
99.999% |
|
Ydre diameter |
Φ101.6-3.175 mm |
|
Massefylde |
8,9 g/cm3 |
|
Form |
Rund |
|
Overflade |
Polering |
|
Leveringstid |
25 dage |
|
Norm |
ASTM B161, ASTM B622 |
|
Certificering |
ISO9001 |
Billeder af nikkelmetalforstøvningsmål:


Populære tags: nikkel metal sputtering mål, leverandører, producenter, fabrik, tilpasset, engros, pris, tilbud, til salg
Send forespørgsel


