Titanium aluminium sputtermål

Titanium Aluminium Sputter Targets Beskrivelse

Magnetron-sputterteknologi er en af ​​nøgleteknologierne til fremstilling af tyndfilmsmaterialer, og metalforstøvningsmålet er nøglematerialet i sputteringsprocessen. Titanium Aluminium Sputter Targets har de fremragende egenskaber af metaltitanium og metalaluminium, såsom høj duktilitet, høj slidstyrke, fremragende elektrisk og termisk ledningsevne, optimal mikrostruktur, god holdbarhed, ætseydelse og forarbejdningsydelse God, god bindingsevne med underlaget, osv. Titanium Aluminium Sputter Targets kan forstøve hårde og oxidationsbestandige nitridbelægninger (TiAlN) på boremaskiner, fræsere, vendeskær og andre værktøjer og forbedre fremføringshastigheden, skæreydelsen og levetiden for bearbejdningsværktøjer. Titanium Aluminium Sputter Targets producerer også klæbende og dæklag i integrerede kredsløb, dekorative belægninger til elektroniske enheder (såsom skiver til mobiltelefoner, fladskærme eller luksusure) og glasbelægninger til bilindustrien.

Specifikationer for Titanium Aluminium Sputter Targets:

Billeder af titan aluminium sputter mål:

Populære tags: titanium aluminium sputter mål, leverandører, producenter, fabrik, tilpasset, engros, pris, tilbud, til salg