Titanium Chromium Sputtering Target

Titanium chrom sputtering targets fremstilles ofte ved hjælp af pulvermetallurgiske processer, så mikrostrukturen er mere ensartet og finere end materialer produceret ved metal fusion processer, og levetiden er længere. Titanium krom sputtering targets er et vigtigt metalcoatingmateriale og vakuumcoatingmateriale, såsom hardwarebelægning, elektronisk produktdisplaybelægning, dekorativ belægning, glasbelægning og mikroelektronisk belægning osv., som kan forhindre rust på overfladen af forskellige produkter og ældning.

Send forespørgsel

Titanium Chromium Sputtering Target

Beskrivelse:Som et overgangsmetal har metal titanium og metalchrom lignende kemiske og fysiske egenskaber, såsom høj styrke, høj hårdhed og fremragende korrosionsbestandighed. De er begge vigtige materialer til fremstilling af forskellige cementerede carbider.Titanium-chromlegering er en titanlegering af typen titanium, som har fordelene ved høj styrke, god sejhed i et iltfrit miljø, stærk svejse- og forarbejdningsydelse, god duktilitet, fremragende varmeledningsevne , fremragende stødmodstand og lang holdbarhed, og kan styrkes ved varmebehandling. Titanium chrom sputtering mål fremstilles ofte ved hjælp af pulvermetallurgiske processer, så mikrostrukturen er mere ensartet og finere end materialer fremstillet ved metalfusionsprocesser, og levetiden er længere .

Ansøgning:Titanium chromlegeringer bruges ofte i det industrielle område, hovedsageligt til produktion af kondensatorer i kraftværker, kompressordele til motorer, elektroder i elektrolyseindustrien og varmeapparater til olieraffinering. Desuden bruges de ofte som forskellige vigtige komponenter i rumfart og videnskabelig forskning.Titan chrom sputtering mål er et vigtigt metalbelægningsmateriale og vakuumbelægningsmateriale, såsom hardwarebelægning, elektronisk produktdisplaybelægning, dekorativ belægning, glasbelægning og mikroelektronisk belægning osv., som kan forhindre rust på overfladen af forskellige produkter og aldring.

Titanium Chromium Sputtering Target Specifikationer:

karakter	TB2,TB3,TB5
Teknik	Sintring, smedning, fladning, udglødning, valsning, vakuumsmeltning, HIP, bearbejdning, limning
Renhed	99,9 procent -99,995 procent
Bredde	10-1200mm
Længde	100-4000mm
Tykkelse	1-50mm
Massefylde	4,5 g/cm³7,2 g/cm³
Hårdhed	35
Overflade	Poleret, lys, kemisk rengøring, sort oxid osv.
Form	Rektangulært, kvadratisk, søjlemål, rørmål eller tilpasset
Standard	ASTM B777,GB,JIS
Certificering	ISO9001, ISO14001

Titanium Chromium Sputtering Target Billeder:

Populære tags: titanium chrom sputtering mål, leverandører, producenter, fabrik, tilpasset, engros, pris, tilbud, til salg