Zirconium roterende sputtering mål

Zirconium roterende sputtering mål Beskrivelse

Zirconium Rotary Sputtering Targets er lavet af højrent zirconiummateriale efter en række bearbejdning, med en specifik højrent zirconiummaterialestørrelse og -form, brugsprocessen er: Målmaterialet anbringes først i et vakuumkammer og bombarderes derefter med høj-renhed. energiioner eller elektroner, således at atomer eller molekyler udstødes fra måloverfladen og aflejres på substratoverfladen. Zirconium Rotary Sputtering Targets har karakteristika af høj renhed, god bearbejdningsydelse, hurtig belægningshastighed og høj kvalitet, korrosionsbestandighed, høj temperaturbestandighed, slidstyrke, lang levetid osv. Det kan give meget god korrosionsbestandighed og høj temperatur og lav temperaturbelægningsbeskyttelse til de vigtige dele i den kemiske industri eller rumfartsindustrien. Det kan også bruges i store glasbelægningsindustrier og elektronisk ingeniørindustri.

For at forlænge levetiden for zirconiummål er nøglen at sikre passende forhold under opbevaring og brug. Under opbevaring skal målet opbevares i et tørt, temperaturstabilt miljø for at undgå oxidation eller strukturelle skader på grund af fugt og temperaturudsving. Under brug er det vigtigt at sikre, at målet er jævnt slidt for at undgå lokalt overforbrug. Dette omfatter regelmæssig inspektion af målet for slid og strukturel integritet samt passende justeringstiltag.

Specifikationer for zirconium roterende sputteringsmål:

Zirconium roterende sputtering mål Billede:

Populære tags: zirkonium roterende sputtermål, leverandører, producenter, fabrik, tilpasset, engros, pris, tilbud, til salg