+8613140018814
Nb2O5 sputteringsmål
video
Nb2O5 sputteringsmål

Nb2O5 sputteringsmål

Nb2O5 Sputtering Target er et plant mål lavet af niobiumoxidmateriale gennem en pulvermetallurgisk proces. Oxidfilmen, der dannes af den, er af ensartet kvalitet, vil ikke reagere med andre stoffer i luften og har en varig beskyttende effekt. Nb2O5 Sputtering Target bruges hovedsageligt i overfladetekniske materialer, såsom skibsbygning, kemisk industri, flydende krystaller (LCD) og varmebestandige, korrosionsbestandige og stærkt ledende belægningsindustrier, tyndfilmsolindustri, lavemissionsglasindustri , fladskærmsindustri, optisk belægningsindustri, værktøjs- og dekorativ belægningsindustri.
Send forespørgsel
Product Details ofNb2O5 sputteringsmål
Nb2O5 Sputtering Target er et plant mål lavet af niobiumoxidmateriale gennem en pulvermetallurgisk proces. Oxidfilmen, der dannes af den, er af ensartet kvalitet, vil ikke reagere med andre stoffer i luften og har en varig beskyttende effekt. Nb2O5 Sputtering Target bruges hovedsageligt i overfladetekniske materialer, såsom skibsbygning, kemisk industri, flydende krystaller (LCD) og varmebestandige, korrosionsbestandige og stærkt ledende belægningsindustrier, tyndfilmsolindustri, lavemissionsglasindustri , fladskærmsindustri, optisk belægningsindustri, værktøjs- og dekorativ belægningsindustri.

Nb2O5 Sputtering Target Funktioner

1. Optiske egenskaber: Niobiumoxidfilm har fremragende optiske egenskaber, et lille optisk bølgeledertab og fremragende elektrokrom ydeevne. Dette materiale kan bruges til at producere højtydende optiske belægningsprodukter.

2. Kemisk stabilitet og elektriske egenskaber

Niobiumoxid har god kemisk stabilitet og elektriske egenskaber og er velegnet til applikationer, der kræver høj stabilitet og fremragende ledningsevne.

3. Ydeevne ved høj temperatur: Niobiumoxid har et meget højt smeltepunkt, hvilket gør det muligt at opretholde en god ydeevne i højtemperaturmiljøer.

4. Høj renhed og konsistens Renheden af ​​niobiummål kan nå mere end 99,95%, med lille kornstørrelse, god omkrystallisationsstruktur og god triaksial konsistens. Dette gør kvaliteten af ​​den producerede oxidfilm ensartet og ydeevnen stabil.

Nb2O5 Sputtering Target Applikation

1. Optisk belægning: i produktionen af ​​højtydende optisk glas- og fladskærmsindustri. Det bruges til at fremstille optiske interferensfiltre, elektrokemiske film, gassensorer osv.

2. Fladskærmsindustri: bruges til at producere AR-film (anti-refleksion og anti-refleksion), som kan øge lystransmissionen af ​​displayenheder markant, reducere refleksion og gøre billeder klarere.

3. Solceller: Det elektriske filmsystem, der bruges til fremstilling af tyndfilmssolceller, er med til at forbedre solcellernes effektivitet.

4. Harddisklagringsteknologi: I udviklingen af ​​harddiske med høj densitet og stor kapacitet anvendes gigantiske magnetoresistive filmmaterialer. Disse materialer spiller en nøglerolle i læse-og-skrive-ydelsen af ​​harddiske.

5. Arkitektonisk og bilglasbelægning: Belægning, der anvendes til arkitektonisk glas og bilglas for at forbedre UV-modstandsdygtigheden og varmeisoleringsegenskaberne af disse materialer.

Specifikationer for Nb2O5 sputteringsmål:

Materiale

Sb2O5

Udseende

Krystallinsk fast, grå-sort

Renhed

Nb større end eller lig med 99,95 %

Tæthed

4,47 g/cm3

Størrelse

450 x 300 x 12 mm

Tykkelse

1-20mm

Smeltepunkt

1512 grader (2754 grader F)

Form

Plader, Trinmål

Certificering

ISO9001

Nb2O5 sputtering mål Billede

Niobium Oxide Nb2O5 Sputtering Targets

Niobium Oxide Target

Populære tags: nb2o5 sputtering mål, leverandører, producenter, fabrik, tilpasset, engros, pris, tilbud, til salg

Send forespørgsel

(0/10)

clearall