Niobiumoxidmål

Niobiumoxidmålbeskrivelse

Forstøvningsteknologi gør det muligt at afsætte film af sputteret metal eller oxidmateriale med ultrahøj renhed på et andet fast underlag. Nb2O5-film fremstilles ved sputtering, og anvendelsen af ​​niobiumoxidmaterialer i højdielektriske dielektrika, antireflekterende belægninger og gasfølsomme materialer undersøges. Niobium Oxide Target er generelt lavet af niobiumpentoxidmateriale gennem pulvermetallurgibehandling eller magnetronforstøvningsteknologi. Det har høj densitet, høj renhed, minimal gennemsnitlig kornstørrelse, god elektrokemisk stabilitet og elektroniske transmissionskarakteristika, højt brydningsindeks og lav spredning, høj temperaturbestandighed, korrosionsbestandighed, holdbarhed og andre fremragende fysiske og kemiske egenskaber.

Niobium Oxide Target kan ikke kun bruges til at fremstille højkvalitets niobiumoxidfilm, nanotråde og andre nanostrukturer, men også til at forberede elektrokemiske enheder såsom effektive solceller og lithium-ion-batterier, samt til at forberede termisk beskyttelse og korrosionsbestandig belægningsmaterialer.

Niobiumoxidmålspecifikationer:

Niobiumoxid-målbilleder

Populære tags: niobiumoxidmål, leverandører, producenter, fabrik, tilpasset, engros, pris, tilbud, til salg