Sputtering Target

Sputteringsmål i aluminiumkromlegering

Aluminium Chromium Legering Sputtering Target Egenskaber og anvendelse Aluminium Chromium Legering Sputtering Target kan nemt modstå ekstrem høj temperatur, højt tryk og forskellige korrosions

Føj til forespørgsel
Aluminium Chrom Sputtering Target

Aluminium Chrom Sputtering Mål Beskrivelse Aluminium, et af de mest almindelige metaller i verden, er let, formbart og ikke-magnetisk. Chrom er et sølv-hvidt metal med fremragende

Føj til forespørgsel
Zirconium Titanium Sputter Targets

Zirconium Titanium Sputter Targets Beskrivelse Zirconium er et skinnende off-white stærkt overgangsmetal, der kan bruges som et legeringselement, og det resulterende legeringsmateriale har mere

Føj til forespørgsel
Zirconium Titanium Sputtering Target

Zirconium Titanium Sputtering Mål Beskrivelse Zirconium er et hårdt, skinnende, sølvfarvet metalmateriale, og titanium er det mest almindeligt anvendte militære eller civile industrielle

Føj til forespørgsel
Titanium Zirconium Alloy Sputtering Target

Titanium Zirconium Alloy Sputtering Target Beskrivelse Sputtering target-processen garanterer fremragende korrosionsbestandighed selv under meget barske miljøforhold, såsom korrosive dampe og

Føj til forespørgsel
99,9 procent Titanium Sputtering Target

99,9 procent Titanium Sputtering Mål Beskrivelse Titanium er et almindeligt materiale, der kan findes i en række produkter, herunder ure, boremaskiner, bærbare computere og cykler, blandt andre. Dets

Føj til forespørgsel
Titanium Silicium Legering Sputtering Target

Titanium Silicium Alloy Sputtering Target Beskrivelse Sputtering target er en vigtig del af driften af magnetron sputtering teknologi, som kan opdeles i tre typer: metal, legering og keramik.

Føj til forespørgsel
Titanium Silicon Sputter Targets

Titanium Silicon Sputter Targets Beskrivelse Magnetron sputtering coating er en ny type fysisk dampcoating-metode, som bruger et elektronkanonsystem til at udsende og fokusere elektroner på det

Føj til forespørgsel
Titanium Silicon Planar Sputtering Targets

Titanium Silicium Planar Sputtering Targets Beskrivelse Titanium silicid er en uorganisk forbindelse, der typisk fremstilles ved at bruge silicide teknikker på silicium og polysilicium linjer for at

Føj til forespørgsel
Krom Titanium Sputtering Target

Chromium Titanium Sputtering Target Beskrivelse Målet er målmaterialet bombarderet af højhastigheds energipartikler. Når lasere med forskellige effekttætheder, forskellige udgangsbølgeformer og

Føj til forespørgsel
Titanium Kromlegering Sputtering Target

Titanium Chromium Alloy Sputtering Målbeskrivelse Som en hård materialebelægning med meget god ydeevne kan titanium-aluminiumlegeringsmateriale beskytte komponenter mod højintensivt slid i størst

Føj til forespørgsel
Ren Titanium Sputtering Target

Ren Titanium Sputtering Target Funktioner: Sammenlignet med andre mål er metalmål i højere markedsefterspørgsel end keramiske mål, deres ydeevne er højere, og levetiden er længere. For sputtermålet,

Føj til forespørgsel

Vi er kendt som en af de førende producenter og leverandører af sputtermål i Kina. Hvis du vil købe højkvalitets sputtermål med konkurrencedygtig pris, velkommen til at få tilbud fra vores fabrik. Også skræddersyet service er tilgængelig.

(0/10)