Sputtering Target

Yag sputtering mål

Yag Sputtering -mål er et sputterende mål sammensat af yttrium, aluminium og granat, normalt fremstillet ved pulvermetallurgi -proces, som kan bruges i vid udstrækning i vakuumbelægning, magnetron

Føj til forespørgsel
Zirconium -mål

Zirconium-mål kan sputres for at producere en højere renhed og mere pryddekorativ belægning, hovedsageligt brugt i husholdningsprodukter, husholdningsapparater, fotoelektriske enheder,

Føj til forespørgsel
Krommål

Krommål er et sputterende mål lavet af krommateriale med høj renhed gennem pulvermetallurgi eller smeltning . Det kan sputter højtydende kromfilm til bred anvendelse i mekanisk behandling,

Føj til forespørgsel
Niobiumoxid sputtering plader

Niobiumoxid-sputteringplader er mål lavet af niobiumoxidmaterialer af høj kvalitet, hovedsageligt brugt til at producere meget gennemsigtige reflekterende film til brug i optiske linser, bilglas,

Føj til forespørgsel
Mål med høj renhed af titan-aluminiumslegering

High Purity Titanium Aluminium Alloy Target er ofte lavet af pulvermetallurgiproces, med sine fremragende fysiske og kemiske egenskaber kan i vid udstrækning bruges i en række fysiske dampaflejringer

Føj til forespørgsel
Kobbermål med høj renhed

High Purity Copper Targets er PVD-procesmål fremstillet af kobbermaterialer med høj renhed efter pulvermetallurgi eller smelteproces, hovedsageligt brugt i halvlederindustrien til at afsætte

Føj til forespørgsel
Niobiumoxidmål

Niobium Oxide Target er generelt lavet af niobiumpentoxidmateriale gennem pulvermetallurgibehandling eller magnetronforstøvningsteknologi. Det har høj densitet, høj renhed, minimal gennemsnitlig

Føj til forespørgsel
Niobium Oxide Nb2O5 Sputtering Targets

Niobium Oxide Nb2O5 Sputtering Targets har en række fremragende egenskaber såsom høj renhed, højt smeltepunkt, god høj temperatur stabilitet, stærk korrosionsbestandighed, fremragende elektrisk

Føj til forespørgsel
99,95 % krom Cr-mål

99,95% Chromium Cr-mål fremstilles generelt ved vakuumsmeltning eller varm isostatisk presseproces, som kan sputtere film af høj kvalitet med høj renhed, høj vedhæftning, god ensartethed, fremragende

Føj til forespørgsel
Titanium Aluminium TiAl Target

Titanium Aluminium TiAl Target Beskrivelse Titanium Aluminium TiAl Target er et målmateriale sammensat af to elementer, titanium og aluminium. Det bruges hovedsageligt til fremstilling af integrerede

Føj til forespørgsel
99,9% Boron Metal Target

99,9% Boron Metal Target Beskrivelse 99,9% Boron Metal Target er en slags højrent, højdensitets-halvledermålmateriale, som hovedsageligt fremstilles gennem pulversmeltning, presning,

Føj til forespørgsel
X-Ray Tube Tungsten Targets

X-Ray Tube Tungsten Targets Beskrivelse X-Ray Tube Tungsten Targets er primært lavet af wolfram plademateriale og er fremstillet ved hjælp af elektrognistskæring eller stanseteknikker. De har højt

Føj til forespørgsel

Vi er kendt som en af de førende producenter og leverandører af sputtermål i Kina. Hvis du vil købe højkvalitets sputtermål med konkurrencedygtig pris, velkommen til at få tilbud fra vores fabrik. Også skræddersyet service er tilgængelig.

(0/10)